問題解決

匠の紫外線

AR(反射防止膜)

紫外線反射防止膜(AR) 波長:350~410nm

  • 紫外線(UV-A)領域の反射を抑えたい。
  • 365nmや405nmなど開始剤に反応する波長の透過率を上げたい。
  • UV領域は膜厚が薄く、制御が難しいと聞きましたが・・
  • 基板、成膜材料が限られると聞きましたが、反射防止コートは可能ですか?
  • 成膜後の測定難易度が高いと聞いているが対応可能ですか?
解決!「紫外線反射防止膜(AR) 波長:350~410nm」のチャート
※設計例であり、保障値ではありません。

匠のポイント

  • 優れた紫外線透過性

    多層の誘電体膜を成膜することにより、基板表裏面による光の反射を防止します。
    可視光での実績に基づき、紫外線の波長帯域においても、成膜時の制御を行うことで
    高い透過率を実現できます。

    但し、成膜可能な基板が限定されますので、事前に確認が必要となります。
    ご利用される基板の特性を利用し、設計を行う事で最適なフィルターを実現致します。

  • ご要望の波長帯での設計・カスタマイズが可能

    ご利用予定の光源(高圧水銀ランプや各種レーザ光、UVLED等)に合せた対応が可能です。
    ご希望の入射角度に合わせカスタマイズした干渉フィルターでの設計・成膜を実施することで、
    高性能な特性を有する反射防止膜の成膜が可能です。

    基板の特性並びにお客様の要望に合わせた設計を行います。
    お問い合わせ時にお伝え下さい。

  • 部品対応も可能

    基板調達から成膜まで可能です。任意の形状にカットし、部品化して出荷することも可能です。
    但し、詳細図面などを頂く必要があります。

  • 測定器

    出荷時には必ず測定チャートを添付致しますので、ご安心ください。

  • クリーンルーム対応

    作業環境は成膜から検査までそれぞれ必要なクリーン度を維持したクリーンルーム内作業となっており、
    微少膜欠陥(膜中異物等)に対しても万全の体制をとっております。

用途例

測定器

分光光度計、原子吸光光度計、半導体膜厚測定装置、共焦点顕微鏡、DNAシーケンス、フローサイトメトリー

微細加工

リフトオフ装置(半導体露光用)、表面改質、親水化処理処理(濡れ性向上)、
ウェーハ洗浄、UV硬化装置(光学部品等の接着、液晶パネル周辺の接着)

殺菌処理

医療用、飲食用、オゾン発生効果

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