匠の紫外線

AR(反射防止膜)
紫外線反射防止膜(AR) 波長:254nm
- 高エネルギー紫外線への耐久性
- 紫外域での低吸収・高耐久を両立できる材料は限定されている。
- 斜入射や多層レンズ系での反射率低減など、単純な設計では性能を満たせない
- 耐性(湿度・温度・UV照射)についての懸念
- 膜厚管理と量産再現性。膜厚分布やロット間バラツキへの不安。
- コストと性能のバランスに困っている。
解決!「紫外線反射防止膜(AR) 波長:254nm」のチャート

匠のポイント
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UVランプの254nm光を極めて活かす!反射防止膜技術の最前線
波長254nmは、水銀ランプ(低圧水銀ランプ)や紫外殺菌装置で最も代表的に使われる強力な紫外線の波長であり、微細加工、表面改質、殺菌・滅菌、分析装置など、さまざまな分野で活用されています。この254nmという短波長領域は、可視光や近赤外線と比べて光エネルギーが格段に高く、照射を受ける材料へのダメージも大きいため、反射防止膜(ARコーティング)の設計・製造には高度な技術が求められます。
まず重要になるのが、紫外域での低吸収かつ高透明度を持つ膜材の厳選です。さらに、254nmという高エネルギーの紫外線は膜表面や内部の微細な欠陥を起点に光学損傷を引き起こすため、成膜にはイオンアシスト蒸着などの先進技術を用いて、緻密で低欠陥の膜構造を形成することが不可欠です。これにより、ピンホールや微細欠陥を抑制し、長期にわたる安定した性能を実現します。
設計面では、特定の波長(254nm)に特化した単層AR膜から、近傍のUV-C領域(おおよそ200〜280nm)をカバーする多層AR膜まで、用途や光学系の条件に応じた最適化が行われます。また、UV光は通常正入射で使われることが多いものの、実際の装置では斜入射になる場合もあり、このときに反射率が急激に上昇しないよう、角度依存性を抑えつつ耐久性を維持する工夫も重要です。こうした複数の技術的課題を高度にバランスさせることで、254nm領域で反射率をできる限り低減し、透過率を最大化することが可能になります。その結果、光学装置や分析機器の性能と信頼性が大きく向上し、より高精度で安定した紫外線応用が支えられています。
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ご要望の波長帯での設計・カスタマイズが可能
お客様のご要望の波長領域に合わせた設計・成膜(コーティング)が可能です。基板の特性並びにお客様の要望に合わせた設計を行いますので、お問い合わせ時に、基板種や波長帯をお伝え下さい。特に紫外線反射防止膜(AR)フィルターの性能を最大限に引き出すためには、基板材質や構造に応じた最適な成膜設計が欠かせません。当社では、ガラス・石英・サファイアなど多様な基板に対応し、それぞれの熱膨張係数や表面特性を考慮した薄膜設計を行っております。
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部品形状対応も可能
基板調達から成膜までの一貫対応に加え、ご要望の形状へのカット・部品化にも対応可能です。形状指定の場合は、詳細図面のご提供をお願いしております。
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万全の品質保証体制
成膜から検査・梱包まで、すべての工程を必要なクリーン度を維持したクリーンルーム内で実施。膜中異物や微少欠陥への対策も万全です。すべての製品に対し、分光特性チャートを添付して出荷いたしますので、安心してご利用いただけます。
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安全・安心な製品設計
当社では、人体や環境に有害な物質は一切使用しておりません。安全性にも配慮した製品設計を徹底しております。カスタム設計の紫外線反射防止膜に関するご相談は、ぜひ安達新産業へ。長年の経験と実績を活かし、最適なソリューションをご提案いたします。
用途例
- 測定器
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分光光度計、原子吸光光度計、半導体膜厚測定装置、共焦点顕微鏡、DNAシーケンス、フローサイトメトリー、紫外線異物検知
- 医療
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抗ウイルス・除菌用紫外線照射装置、眼球の研磨・矯正、血管の血栓除去、皮膚表面のシミ取り
- 微細加工
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リフトオフ装置(半導体露光用)、表面改質、親水化処理処理(濡れ性向上)、レーザ加工装置(液晶パネルのアニーリング工程)、インクジェット式プリンター、ウェーハ洗浄、UV硬化装置(光学部品等の接着、液晶パネル周辺の接着)
- 殺菌処理
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医療用、飲食用、オゾン発生効果