匠の紫外線

AR(反射防止膜)
紫外線反射防止膜(AR) 波長:254nm
- 深紫外線(UV-C)領域の反射を抑えたい。
- UV領域は膜厚が薄く、制御が難しいと聞きましたが・・
- 基板、成膜材料が限られるとききましたが、反射防止可能ですか?
- 成膜後の測定難易度が高いと聞いているが対応可能ですか?
解決!「紫外線反射防止膜(AR) 波長:254nm」のチャート

匠のポイント
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優れた紫外線透過性
多層の誘電体膜を成膜することにより、基板表裏面による光の反射を防止します。
可視光での実績に基づき、紫外線の波長帯域においても、成膜時の制御を行うことで高い透過率を実現できます。但し、成膜可能な基板が限定されますので、事前に確認が必要となります。
ご利用される基板の特性を利用し、設計を行う事で最適なフィルターを実現致します。 -
ご要望の波長帯での設計・カスタマイズが可能
ご利用予定の光源(エキシマランプ、水銀ランプ等)に合せた対応が可能です。
ご希望の入射角度に合わせカスタマイズした干渉フィルターでの設計・成膜を実施することで、高性能な特性を有する反射防止膜の成膜が可能です。
基板の特性並びにお客様の要望に合わせた設計を行いますので、お問い合わせ時にお伝え下さい。
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部品対応も可能
基板調達から成膜まで可能です。任意の形状にカットし、部品化して出荷することも可能です。但し、詳細図面などを頂く必要があります。
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測定器
出荷時には必ず測定チャートを添付致しますので、ご安心ください。
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クリーンルーム対応
作業環境は成膜から検査までそれぞれ必要なクリーン度を維持したクリーンルーム内作業となっており、微少膜欠陥(膜中異物等)に対しても万全の体制をとっております。
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優れた紫外線透過性
多層の誘電体膜を成膜することにより、基板表裏面による光の反射を防止します。
これにより、透過率を向上させます。可視光での実績に基づき、紫外線の波長帯域においても、成膜時の制御を行うことで高い透過率を実現できます。
但し、成膜可能な基板が限定されますので、事前に確認が必要となります。
ご利用される基板の特性を利用し、設計を行う事で最適なフィルターを実現致します。 -
ご希望の入射角度に合わせたカスタマイズした干渉フィルターでの設計・成膜が可能です。
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光源(エキシマレーザ等)に合わせた対応が可能です。高性能な特性を有する反射防止膜の成膜が可能です。ご要望の波長があれば設計可能ですので、お声がけください。
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作業環境は成膜から検査までそれぞれ必要なクリーン度を維持したクリーンルーム内作業となっており、微少膜欠陥(膜中異物等)に対しても万全の体制をとっております。
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出荷時には必ず測定チャートを添付致しますので、ご安心ください。
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任意の形状にカット可能ですので、ご検討時は図面を送付頂きたく存じます。
用途例
- 測定器
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分光光度計、原子吸光光度計、半導体膜厚測定装置、共焦点顕微鏡、DNAシーケンス、フローサイトメトリー、紫外線異物検知
- 医療
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抗ウイルス・除菌用紫外線照射装置、眼球の研磨・矯正、血管の血栓除去、皮膚表面のシミ取り
- 微細加工
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リフトオフ装置(半導体露光用)、表面改質、親水化処理処理(濡れ性向上)、レーザ加工装置(液晶パネルのアニーリング工程)、インクジェット式プリンター、ウェーハ洗浄、UV硬化装置(光学部品等の接着、液晶パネル周辺の接着)
- 殺菌処理
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医療用、飲食用、オゾン発生効果