解決！「紫外線反射防止膜(AR) 波長:254nm」のチャート

匠のポイント

• 優れた紫外線透過性

  多層の誘電体膜を成膜することにより、基板表裏面による光の反射を防止します。
  可視光での実績に基づき、紫外線の波長帯域においても、成膜時の制御を行うことで高い透過率を実現できます。

  但し、成膜可能な基板が限定されますので、事前に確認が必要となります。
  ご利用される基板の特性を利用し、設計を行う事で最適なフィルターを実現致します。

• ご要望の波長帯での設計・カスタマイズが可能

  ご利用予定の光源(エキシマランプ、水銀ランプ等)に合せた対応が可能です。

  ご希望の入射角度に合わせカスタマイズした干渉フィルターでの設計･成膜を実施することで、高性能な特性を有する反射防止膜の成膜が可能です。

  基板の特性並びにお客様の要望に合わせた設計を行いますので、お問い合わせ時にお伝え下さい。

• 部品対応も可能

  基板調達から成膜まで可能です。任意の形状にカットし、部品化して出荷することも可能です。但し、詳細図面などを頂く必要があります。

• 測定器

  出荷時には必ず測定チャートを添付致しますので、ご安心ください。

• クリーンルーム対応

  作業環境は成膜から検査までそれぞれ必要なクリーン度を維持したクリーンルーム内作業となっており、微少膜欠陥(膜中異物等)に対しても万全の体制をとっております。

• 優れた紫外線透過性

  多層の誘電体膜を成膜することにより、基板表裏面による光の反射を防止します。
  これにより、透過率を向上させます。可視光での実績に基づき、紫外線の波長帯域においても、成膜時の制御を行うことで高い透過率を実現できます。
  但し、成膜可能な基板が限定されますので、事前に確認が必要となります。
  ご利用される基板の特性を利用し、設計を行う事で最適なフィルターを実現致します。

• ご希望の入射角度に合わせたカスタマイズした干渉フィルターでの設計・成膜が可能です。

• 光源(エキシマレーザ等)に合わせた対応が可能です。高性能な特性を有する反射防止膜の成膜が可能です。ご要望の波長があれば設計可能ですので、お声がけください。

• 作業環境は成膜から検査までそれぞれ必要なクリーン度を維持したクリーンルーム内作業となっており、微少膜欠陥(膜中異物等)に対しても万全の体制をとっております。

• 出荷時には必ず測定チャートを添付致しますので、ご安心ください。

• 任意の形状にカット可能ですので、ご検討時は図面を送付頂きたく存じます。

用途例

測定器

分光光度計、原子吸光光度計、半導体膜厚測定装置、共焦点顕微鏡、DNAシーケンス、フローサイトメトリー、紫外線異物検知

医療

抗ウイルス・除菌用紫外線照射装置、眼球の研磨・矯正、血管の血栓除去、皮膚表面のシミ取り

微細加工

リフトオフ装置(半導体露光用)、表面改質、親水化処理処理(濡れ性向上)、レーザ加工装置(液晶パネルのアニーリング工程)、インクジェット式プリンター、ウェーハ洗浄、UV硬化装置(光学部品等の接着、液晶パネル周辺の接着)

殺菌処理

医療用、飲食用、オゾン発生効果