高い透過率、反射率を実現

光の干渉を利用していますので、光の散乱や吸収による損失を極めて低く抑えることができ、
その結果、透過域において高い透過率、反射域において高い反射率を得ることが可能です。

製品の安定性

無機誘電体材料を使用しているため、永年にわたって質的変化がありません。
また、有機系溶剤に対して安定です。

各種アシスト機構を用いて緻密な成膜が可能ですので、経時的な波長シフトはもちろん、
煮沸試験・耐熱試験や各種環境試験においても、波長のシフトは認められません。
(シフト量: 1nm以下)

各種基板への成膜

光学薄膜を形成する基材(基板)は、一般的に光学ガラスを用いますが、
当社は低温での成膜に豊富な経験・生産実績を持ち、各種プラスチック基板や、
各種レジスト・UV硬化樹脂塗布基板などへの成膜に対応いたしております。

作業環境について

膜の設計から製作、検査、出荷まで蒸着装置、超音波洗浄機、分光光度計、
電子顕微鏡等最新鋭の装置を駆使してお客様のあらゆるご要望にお応えできる
万全の体制を敷いています。

製品としてトータルにカバー

当社では単に成膜に限定せず、付随する形状加工から、ご要望の仕様に応じ、
光学薄膜の設計から成膜プロセス、製品形状チップ加工までトータルに対応致します。